정밀 금속 스탬핑 부품 ​​'하드웨어'에 사용되는 금속 재료의 화학적 특성

보다 까다로운 경우에 사용되는 정밀 금속 스탬핑 부품에는 정밀 금속 스탬핑 부품 ​​생산에 사용되는 원자재의 화학적 특성이 필요한 경우가 많습니다. 관련 경험이 없는 일부 정밀 금속 스탬핑 공장은 처음 접할 때 당황스러워 보일 것입니다. 오늘날 하드웨어는 다음과 같은 정밀 금속 스탬핑 부품에 사용되는 금속 재료의 화학적 특성을 대중화할 것입니다. 금속재료의 화학적 성질이란 내산화성, 내식성, 화학적 안정성 등 화학반응이 일어나야만 얻을 수 있는 성능을 말합니다. 하나, 화학적 성질. 금속 재료의 화학적 특성은 실온 또는 고온에서 다양한 부식성 매체에 의한 화학적 공격에 저항하는 금속 재료의 능력을 나타냅니다. 그것은 주로 내식성과 내 산화성의 두 가지 측면을 포함합니다. 둘째, 화학적 부식입니다. 이는 금속과 주변 매체 사이의 직접적인 화학적 작용의 결과입니다. 여기에는 비전해성 화학 부식성 물질의 가스 부식과 금속 부식의 두 가지 형태가 포함됩니다. 그 특징은 부식 과정에서 전류가 발생하지 않으며 부식 생성물이 금속 표면에 침전된다는 것입니다. 셋째, 전기화학적 부식 부식이다. 산, 알칼리, 염분 등과 같은 금속과 전해질 용액의 작용으로 발생하는 부식을 전기화학적 부식이라고 합니다. 부식 과정에서 전류가 발생하는 것이 특징입니다. 부식생성물(녹)은 양극처럼 금속 표면을 덮지 않고, 양극 금속으로부터 일정 거리를 두고 덮게 됩니다. 넷째, 일반적인 부식입니다. 이러한 부식은 금속의 내부 및 외부 표면에 고르게 분포되어 단면적이 지속적으로 감소되고 응력을 받는 부분이 파괴됩니다. 다섯째, 입계부식이다. 이러한 부식은 결정립의 가장자리를 따라 금속 내부에서 발생하며, 일반적으로 금속의 형태 변화를 일으키지 않으며, 장비나 부품에 급격한 손상을 일으키는 경우가 많습니다. 여섯째, 공식 부식. 이러한 종류의 부식은 금속 표면의 작은 면적에 집중되어 빠르게 금속 표면까지 침투하여 금속 표면까지 침투하게 되는데, 이는 더욱 유해한 부식 손상의 일종입니다. 일곱째, 응력 부식. 이는 정적 응력(금속의 내부 및 외부 응력)의 작용으로 부식성 매체에서 금속에 의해 발생하는 손상을 말합니다. 이러한 종류의 부식은 일반적으로 입자 내부로 침투하는데, 이를 입계 부식이라고 합니다. 여덟째, 부식 피로. 교번 응력의 작용으로 부식성 매체의 금속으로 인한 손상을 말합니다. 이는 또한 일종의 입계 부식입니다. 아홉, 항산화 특성. 실온 또는 고온에서 산화에 저항하는 금속 재료의 능력. 금속의 산화 과정은 실제로 화학적 부식의 한 형태입니다. 부식 후 금속 표면의 중량 감소 크기, 즉 금속 중량 감소율의 일정 기간 동안 직접 사용할 수 있습니다.